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離子鍍膜設備與工藝

采用等離子體離子刻蝕和離子鍍膜技術相結合,在低溫條件下,對復合材料表面制備功能涂層。功能涂層具備良好的介電特性,以及優異的基體結合性能。設備配置陽極層離子源、磁過濾等離子體源和伸縮磁控濺射源等專利技術,可對長度超過 3000mm 的產品進行功能涂層制備,設備采用全自動控制技術,可實現工藝和產品生產一鍵式操作。

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